1.新型雙面拋光機(jī)傳動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
為實(shí)現(xiàn)新型雙面拋光機(jī)各部分運(yùn)動(dòng)，可以采用所示結(jié)構(gòu)。上拋光盤7旋轉(zhuǎn)或固定，下拋光盤3由電機(jī)17通過皮帶、齒輪機(jī)構(gòu)18、軸套23、下底板3帶動(dòng)作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng);控制裝置控制內(nèi)外運(yùn)行裝置作等距離圓平動(dòng)及公轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，各工件載體由內(nèi)外運(yùn)行裝置帶動(dòng)作相同運(yùn)動(dòng)�？刂蒲b置分為2部分，第1部分控制外運(yùn)行裝置作圓平動(dòng)(擺動(dòng))，伺服電機(jī)19通過齒輪傳動(dòng)機(jī)構(gòu)20馭動(dòng)齒輪21.各外運(yùn)動(dòng)裝置22與各齒輪21固連，帶動(dòng)多個(gè)外運(yùn)動(dòng)裝ff的轉(zhuǎn)盤運(yùn)轉(zhuǎn).使裝在轉(zhuǎn)盤上的外偏心臂同向同速旋轉(zhuǎn);伺服電機(jī)13通過齒輪傳動(dòng)機(jī)構(gòu)12軸套24及齒輪25驅(qū)動(dòng)齒輪6.各內(nèi)運(yùn)動(dòng)裝置與各齒輪6固連.帶動(dòng)多個(gè)內(nèi)運(yùn)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)盤運(yùn)轉(zhuǎn).使裝在轉(zhuǎn)盤上的內(nèi)偏心臂同向同速旋轉(zhuǎn)(或擺動(dòng))。

2.新型雙面拋光機(jī)運(yùn)動(dòng)分析
各載體運(yùn)動(dòng)相同，以單個(gè)載體的運(yùn)動(dòng)進(jìn)行分析。坐標(biāo)系下，若偏心臂以恒定角速度。勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，xoy是固定坐標(biāo)系.其原點(diǎn)位于內(nèi)外轉(zhuǎn)盤中心線的中點(diǎn)o.x,o,y為原點(diǎn)位于載體中心o’的動(dòng)坐標(biāo)系，隨載體一起作平動(dòng).動(dòng)坐標(biāo)系xoy內(nèi)一坐標(biāo)為(x,y)的定點(diǎn)在靜坐標(biāo)系.xoy內(nèi)對應(yīng)的點(diǎn)為(x,y).則有（公式略）

3.結(jié)語
該新型雙面拋光機(jī)具有圓平動(dòng)(或擺動(dòng))方式下恒速變向拋光的優(yōu)點(diǎn).且能把拋光壓力均勻壓在載體內(nèi)的工件上，體積小，結(jié)構(gòu)緊湊。具有較為理想的拋光軌跡形態(tài)以及恰當(dāng)?shù)?strong>拋光機(jī)的拋光軌跡密度分布，可以有效減少工件的畸變、減小拋光盤的磨損變形、減少拋光盤修整次數(shù)。提高工件的加工效率和加工精度.降低工件表面的粗糙度，為硅晶片獲得納米級加工精度的超光滑加工表面創(chuàng)造了有利條件。